2025 年 9 月，一则消息在全球半导体领域激起千层浪——中芯国际正在测试由上海宇量昇生产的深紫外线(DUV)光刻机。这一事件看似只是一次企业内部的设备测试，实则可能成为全球半导体产业格局调整的重要转折点。
DUV 光刻机，即深紫外光光刻机，是制造半导体芯片的关键设备之一。其工作原理是利用深紫外光(波长通常为 193纳米)，通过复杂且精密的光学投影技术，将集成电路图案从掩模精准地转移到涂有光刻胶的硅片上。在半导体制造过程中，光刻环节决定了芯片电路的精细程度，直接影响芯片的性能和集成度，因此光刻机在整个半导体产业链中占据着核心地位。
长期以来，全球 DUV 光刻机市场主要由荷兰公司主导。其 DUV光刻系统凭借其先进的技术和卓越的性能，在高端芯片制造领域拥有极高的市场份额。以出色的生产率、成像和覆盖性能，为先进逻辑和内存芯片的大规模制造提供了坚实支撑。然而，近年来，随着国际形势的变化，半导体产业供应链面临着前所未有的挑战。
在此背景下，上海宇量昇研发的 DUV 光刻机进入中芯国际的测试环节，具有重大意义。中芯国际正在测试的这台设备采用了浸没式技术，可用于 28纳米制程，并且通过多重曝光技术有望生产 7 纳米芯片，甚至在极限情况下能够尝试生产5纳米处理器，尽管此时良率可能偏低。这一成果意味着中国在半导体核心设备研发领域取得了突破性进展。
从全球半导体产业格局来看，若上海宇量昇的 DUV光刻机能够顺利通过测试并实现量产，将对现有格局产生多方面影响。一方面，对于中国半导体产业而言，这将极大地提升产业自主性和供应链安全性。长期以来，中国半导体产业在高端设备领域受制于人，此次国产DUV光刻机的出现，有望填补关键技术空白，减少对西方技术的依赖，为国内芯片制造企业提供更稳定的设备供应，促进产业上下游协同发展，推动中国半导体产业向更高水平迈进。例如，在成熟制程芯片市场，28纳米、40纳米等制程芯片广泛应用于汽车电子、工业控制、物联网等众多领域，国产DUV光刻机的量产将有助于满足这些领域对芯片日益增长的需求，提升中国在全球成熟制程芯片市场的竞争力。
另一方面，从全球竞争角度看，这将打破全球头部品牌 在DUV光刻机市场近乎垄断的局面，增加市场竞争活力。新的技术参与者进入市场，将促使全球光刻机制造商加大研发投入，推动光刻技术进一步创新和发展。同时，也将为全球半导体芯片制造企业提供更多的设备选择，改变部分企业因设备供应受限而面临的产能瓶颈问题，促进全球半导体产业供应链的多元化发展。
然而，中国品牌也应清醒地认识到，虽然此次中芯国际对上海宇量昇DUV光刻机的测试是一个重大突破，但要实现国产DUV光刻机在全球市场的广泛应用和持续发展，仍面临诸多挑战。例如，在技术层面，需要进一步提高设备的稳定性、精度和生产效率，优化多重曝光等关键技术，以提升芯片制造的良率和质量;在市场层面，需要建立完善的售后服务体系，提高客户对国产设备的信任度和认可度。
总体而言，2025 年 9 月中芯国际对上海宇量昇DUV光刻设备的测试，是中国半导体产业发展历程中的一个重要里程碑，也为全球半导体产业格局的调整带来了新的变量。无论后续结果如何，这一事件都将激励中国半导体产业在自主创新的道路上继续砥砺前行，也将对全球半导体产业的技术发展和市场竞争产生深远的影响，值得产业内外持续关注。
